Показать 9 12 18 24

Устройство лазерной очистки OneCLEAN

Самое производительное лазерное устройство в своем ценовом сегменте и мобильном форм-факторе (ранец или кейс). Легкий пистолет с помощью при фокусировке и управлением параметрами очистки. Скорость обработки до 30 м²/ч, нет расходников, потребляет до 1 кВт. Не требует дополнительного подключения воздуха и водяного охлаждения.

Устройство лазерной очистки F-Clean BP

от 1 800 000 
Самое компактное портативное лазерное устройство. Во время работы оборудование находится на спине у оператора. Идеально подходит для локальной очистки объектов большого размера и высотных работ.

Устройство лазерной очистки F-Clean BP-M

от 5 250 000 
Новая модель ранца высокой мощности с производительностью до 25 см²/с позволяет эффективнее работать со сложными загрязнениями, когда требуется высокая мобильность и обработка труднодоступных мест.

Устройство лазерной очистки F-Clean CS-M

от 5 250 000 
Мобильное решение с повышенной пыле- и влагозащитой. В закрытом состоянии Кейс защищен по стандарту IP67. Имеет ручки и колеса с двух сторон для удобства транспортировки.

Устройство лазерной очистки F-Clean CS-S

от 1 800 000 
Компактное устройство для безопасных и комфортных перемещений. При транспортировке пистолет находится внутри кейса. Габариты небольшого чемодана, ручки и колеса обеспечивают комфортную транспортировку.

Устройство лазерной очистки F-Clean CW

от 4 850 000 
Модель F-Clean CW – последнее дополнение к модельному ряду оборудования для лазерной очистки компании Pokkels. Устройство с непрерывным лазерным источником с высокой мощностью идеально подходит для задач, где нужна высокая производительность.

Устройство лазерной очистки F-Clean RB

Разработка индивидуальных роботизированных систем для автоматизации процессов лазерной очистки. Может быть встроена в существующую систему.

Устройство лазерной очистки F-Clean RK

от 2 850 000 
Стационарное устройство для работы в условиях производства. Пистолет хранится внутри оборудования. Установка оснащена колесами для легкого перемещения.

Устройство лазерной очистки F-Clean RK-TH 500

от 6 880 000 
Профессиональное решение для бережной ручной очистки пресс-форм с системой управления лазерным лучом EVENRAY, которая контролирует тепловое воздействие, полностью удаляет до 20 типов загрязнений (включая нагары, пластик, резину, смазки, жиры, оксиды) и сохраняет поверхность неповрежденной. Эффективно работает на горячих и холодных поверхностях, исключает необходимость демонтажа, охлаждения, нагрева, промывки или просушки пресс-форм, идеально подходит для непрерывного производства и минимизации простоев.

Лазерная очистка — это современное решение для бережной и высокоэффективной обработки металлических поверхностей без использования расходных материалов и риска механических повреждений. Лазерные аппараты, представленные в мобильных (ранец, кейс) и стационарных форм-факторах, обеспечивают высокую производительность (до 30 м²/ч), подходят для локальной и промышленной очистки, а также оснащены удобными опциями, такими как автономная работа, защита от пыли и влаги (IP67), и специализированные режимы для деликатных поверхностей, таких как пресс-формы. Мощность устройств варьируется от 50 до 1500 Вт, что позволяет выбрать оптимальное решение для любых задач — от высотных работ до непрерывного производственного цикла.