Задайте Ваш вопрос!
Мы готовы ответить прямо сейчас! Запишитесь на бесплатную консультацию.
Я даю согласие на обработку персональных данных и соглашаюсь с пользовательским соглашением и политикой конфиденциальности
Устройство лазерной очистки F-Clean CW
от 4 850 000 ₽
Модель F-Clean CW – последнее дополнение к модельному ряду оборудования для лазерной очистки компании Pokkels. Устройство с непрерывным лазерным источником с высокой мощностью идеально подходит для задач, где нужна высокая производительность.
Описание
- Мощность излучения:
- 1500 Вт
- Пиковая мощность:
- 2500 Вт
- Лазерный источник:
- непрерывный волоконный лазер IPG-Photonics
- Охлаждение:
- Воздух
- Ширина луча:
- 10-200 мм
- Скорость линейного сканирования луча:
- 0 – 15.2 м/с
- Длина оптоволокна:
- 5/10 м
- Питание:
- 220 В, 50 Гц
- Ресурс работы:
- 100 000 часов
- Срок гарантии:
- 24 месяца
- Режим работы:
- 24/7
- Габариты:
- 592 х 286 х 541 мм
- Вес:
- 53 кг
- Вес пистолета:
- 2 кг
Похожие товары
Устройство лазерной очистки OneCLEAN
Самое производительное лазерное устройство в своем ценовом сегменте и мобильном форм-факторе (ранец или кейс). Легкий пистолет с помощью при фокусировке и управлением параметрами очистки. Скорость обработки до 30 м²/ч, нет расходников, потребляет до 1 кВт. Не требует дополнительного подключения воздуха и водяного охлаждения.
Устройство лазерной очистки F-Clean RK-TH 500
Профессиональное решение для бережной ручной очистки пресс-форм с системой управления лазерным лучом EVENRAY, которая контролирует тепловое воздействие, полностью удаляет до 20 типов загрязнений (включая нагары, пластик, резину, смазки, жиры, оксиды) и сохраняет поверхность неповрежденной. Эффективно работает на горячих и холодных поверхностях, исключает необходимость демонтажа, охлаждения, нагрева, промывки или просушки пресс-форм, идеально подходит для непрерывного производства и минимизации простоев.